美國材料實驗學會（ASTM）1983、1990年頒發(fā)的電子級水質(zhì)標準，已不能適應(yīng)超大規(guī)模集成電路迅速發(fā)展需要。目前ASTM提出了新的、更為嚴格的水質(zhì)指標。Bolindustry膜分離事業(yè)部，專業(yè)為半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路行業(yè)，提供生產(chǎn)所需純水、高純水、超純水工藝設(shè)計及成套設(shè)備。                  

● 系統(tǒng)產(chǎn)水符合國家《GB/T 11446.1-2013電子級水》標準；
● 采用先進的全膜法工藝，實現(xiàn)更小占地面積，及高度自動化運行；
● 實現(xiàn)電阻率≥18.3MΩ的超純水制備；
● 對產(chǎn)水TOC處理：≤5μg/l；
● 系統(tǒng)產(chǎn)水符合國家《GB/T 11446.1-2013電子級水》標準；
● 主配置采用DOW陶氏膜元件、西門子EDI、DOWEX拋光樹脂，以及Aquafine UV及TOC裝置。